40 C.F.R. § 98 app Table I-3 to Subpart I of Part 98
Current through May 31, 2024
Table I-3 to Subpart I of Part 98-Default Emission Factors (1-Uij) for Gas Utilization Rates (Uij) and By-Product Formation Rates (Bijk) for Semiconductor Manufacturing for 150 mm and 200 mm Wafer Sizes
| Process type/sub-type | Process gas i | ||||||||||||
| CF4 | C2F6 | CHF3 | CH2F2 | C2HF5 | CH3F | C3F8 | C4F8 | NF3 | SF6 | C4F6 | C5F8 | C4F8O | |
| Etching/Wafer Cleaning | |||||||||||||
| 1-Ui | 0.81 | 0.72 | 0.51 | 0.13 | 0.064 | 0.70 | NA | 0.14 | 0.19 | 0.55 | 0.17 | 0.072 | NA |
| BCF4 | NA | 0.10 | 0.085 | 0.079 | 0.077 | NA | NA | 0.11 | 0.0040 | 0.13 | 0.13 | NA | NA |
| BC2F6 | 0.046 | NA | 0.030 | 0.025 | 0.024 | 0.0034 | NA | 0.037 | 0.025 | 0.11 | 0.11 | 0.014 | NA |
| BC4F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC4F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC5F8 | 0.0012 | NA | 0.0012 | NA | NA | NA | NA | 0.0086 | NA | NA | NA | NA | NA |
| BCHF3 | 0.10 | 0.047 | NA | 0.049 | NA | NA | NA | 0.040 | NA | 0.0012 | 0.066 | 0.0039 | NA |
| Chamber Cleaning | |||||||||||||
| In situ plasma cleaning: | |||||||||||||
| 1-Ui | 0.92 | 0.55 | NA | NA | NA | NA | 0.40 | 0.10 | 0.18 | NA | NA | NA | 0.14 |
| BCF4 | NA | 0.21 | NA | NA | NA | NA | 0.20 | 0.11 | 0.050 | NA | NA | NA | 0.13 |
| BC2F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.045 |
| BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| Remote plasma cleaning: | |||||||||||||
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.017 | NA | NA | NA | NA |
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.015 | NA | NA | NA | NA |
| BC2F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| In situ thermal cleaning: | |||||||||||||
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC2F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
Notes: NA = Not applicable; i.e., there are no applicable default emission factor measurements for this gas. This does not necessarily imply that a particular gas is not used in or emitted from a particular process sub-type or process type.
40 C.F.R. 98 app Table I-3 to Subpart I of Part 98